-
UID:317649
-
- 注冊(cè)時(shí)間2020-06-19
- 最后登錄2024-10-23
- 在線時(shí)間1468小時(shí)
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
摘要 zb.sh Z9i~>k 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模?梢詸z測(cè)到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 #I#_gjJkx NT{'BJ GN+!o($ MHS|gR.c 建模任務(wù) E5\>mf
,;u n(_wt##wE~ =69sWcC8 ?(M]'ia{
|