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摘要 @2$8o]et
BuvBSLC~ 用于增強(qiáng)或混合現(xiàn)實(shí)應(yīng)用的任何類型的光導(dǎo)系統(tǒng)，其設(shè)計(jì)過(guò)程中的一個(gè)主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴(kuò)展器光柵區(qū)域的配置。為此，對(duì)光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡(jiǎn)單的概述非常有幫助：足跡分析。借助足跡和光柵分析工具，VirtualLab提供了一個(gè)強(qiáng)大的工具，可在此過(guò)程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中，討論了這個(gè)多功能工具的選項(xiàng)和功能。 `nM4kt7
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 5:PZ=jPR d:wA I| 足跡和光柵分析工具 5-3gsy/Mo 足跡和光柵分析工具是光導(dǎo)工具箱黃金版的一個(gè)特色。 $U0(%lI U 它可以在開始功能區(qū)的光導(dǎo)部分進(jìn)行初始化。 A+}4 N%kh
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 3PEs$m9e WcJ{} V9 操作工具的基本流程 Grub1=6l
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 Hb$q }1+y <qy+@t 步驟1：選擇要分析的設(shè)置。它可以通過(guò)布局設(shè)計(jì)工具生成，詳見： Rd$<R
X@G`AD'.M 光導(dǎo)布局設(shè)計(jì)工具 @t^ 2/H
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s6]f#s5o 但是請(qǐng)注意，足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個(gè)文件。 G`P+ J
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