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    [產(chǎn)品]《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(第二版 精裝) [復(fù)制鏈接]

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    內(nèi)容簡(jiǎn)介 w% %q/![uy  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書(shū)籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 Q|'f3\  
    《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書(shū)中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問(wèn)題,如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書(shū)共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開(kāi)始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來(lái),對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 +\eJxyO  
    薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書(shū)中并附設(shè)計(jì)光盤(pán)和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見(jiàn),在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書(shū)能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過(guò)學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限,書(shū)中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免,本書(shū)若有不周之處,尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 v e&d"8+]  
    訊技科技股份有限公司
    2015年9月3日
    D:z'`v0j  
    ^A$=6=CX  
    目錄  {^N,=m\  
    Preface 1 YuK+ N  
    內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 ?I}RX~Tgg  
    目錄 i G4* LO  
    1  引言 1 >q"dLZ  
    2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 [wGj?M}  
    2.1  一般規(guī)則 2 n' ~ ==2  
    2.2  正交入射規(guī)則 3 |Y7SP]/`gB  
    2.3  斜入射規(guī)則 6 I!lDKS,b  
    2.4  精確計(jì)算 7 ,!#Am13  
    2.5  相干性 8 Q:-T' xk@  
    2.6 參考文獻(xiàn) 10 586P~C[ic  
    3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 Qg4D*r\|@  
    4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 .shi?aWm  
    4.1  容量和局限性 33 GG%b"d-  
    4.2  程序在哪里? 33 J"`VA_[  
    4.3  數(shù)據(jù)文件 35 r,6~%T0  
    4.4  設(shè)計(jì)規(guī)則 35  LA3m,  
    4.5  材料數(shù)據(jù)庫(kù)和資料庫(kù) 37 ZQ`8RF *v  
    4.5.1材料損失 38 M\]lNQ