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    [技術(shù)]通過(guò)高NA浸沒(méi)顯微鏡進(jìn)行聚焦 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 03-27
    摘要 O+/{[9s  
    Qvel#*-4  
    在浸沒(méi)顯微鏡中,我們通常使用蓋玻片將浸沒(méi)液體和樣品分開(kāi)。因此,PSF可能會(huì)因蓋玻片在焦平面處的界面而變形,這在設(shè)計(jì)過(guò)程中通常不能被很好地考慮。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析蓋玻片界面對(duì)PSF的影響,以完全矢量的方式演示并分析蓋玻片后面的焦點(diǎn)變形。 RCoDdtMo  
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    在VirtualLab Fusion中構(gòu)建系統(tǒng) (bpRX$is  
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    系統(tǒng)構(gòu)建塊 teC/Uf 5  
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    組件求解器 +U%epq  
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    系統(tǒng)構(gòu)建塊 dLeos9M:  
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    總結(jié) ^)a:D KL  
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    幾何光學(xué)仿真 b?VByJl  
    通過(guò)光線追跡 mAY/J0_  
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    結(jié)果:光線追跡 Da!vGr  
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    快速物理光學(xué)仿真 6}0_o[23  
    通過(guò)場(chǎng)追跡 o4@d,uIw^  
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