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    [技術(shù)]TRCX：摻雜過(guò)程分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 02-29
    在 LTPS 制造過(guò)程中，使用自對(duì)準(zhǔn)掩模通過(guò)離子注入來(lái)金屬化有源層。當(dāng)通過(guò) TRCX 計(jì)算電容時(shí)，應(yīng)用與實(shí)際工藝相同的原理。工程師可以根據(jù)真實(shí)的 3D 結(jié)構(gòu)提取準(zhǔn)確的電容，并分析有源層離子注入前后的電位分布，如下圖所示。 j$6Q]5KdoS  
    (a)FIB rzie_)a Y%  
    FaWc:GsfB  
    (b) 摻雜前后對(duì)比
     
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