[技術(shù)]錐形相位掩模的Talbot圖像 [復(fù)制鏈接]

摘要 i1 >oRT{Z  
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在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱(chēng)為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模�？梢詸z測(cè)到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 EpU}~vC9C  
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圖片:1-220G3232QN13.jpg

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建模任務(wù) $z[@DB[  
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圖片:1-220G3232T1D5.png

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structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) +:kMYL3  
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系統(tǒng)建模塊 v83@J~  
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圖片:1-220G323292Xb.png

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特定位置的Talbot圖案 MS`XhFPS.  
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