在超大規(guī)模集成
電路中，為了實現(xiàn)NA=135，波長193nm處
分辨率達到 45nm的目標，需要對影響
光刻照明均勻性的誤差源進行詳細分析最終確定
公差范圍。
復眼透鏡是使
光束在
系統(tǒng)掩膜面上形成矩形均勻照明區(qū)域的關(guān)鍵元件。采用
CODEV軟件設(shè)計了復眼透鏡對引起照明不均勻性的因素進行分析，結(jié)合復眼透鏡組的設(shè)計方案和實際加工能力，給出X和Y向復眼曲率公差為±10%，后組曲率公差為±5%，前后組間隔公差為±50μｍ，位置精度偏心公差為±1μｍ，裝配精度公差為±3μｍ。制定公差合理、可行，滿足了浸沒式光刻照明系統(tǒng)高均勻性、高能量利用率的要求。
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