不需EUV光刻機(jī) 國內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線2023年建成

如今，光刻機(jī)一直限制著國產(chǎn)芯片的發(fā)展，為了突破限制，國家正在大力推進(jìn)光子芯片，其原理跟硅芯片不同，運(yùn)算速度可提升 1000 倍以上，而且不依賴先進(jìn)的光刻機(jī)，比如 EUV 光刻機(jī)，因此是各國爭相發(fā)展的新一代信息科技。 & w%%{lM  
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近日，有消息稱，國內(nèi)首條 " 多材料、跨尺寸 " 的光子芯片生產(chǎn)線已在籌備，預(yù)計(jì)將于 2023 年在京建成，可滿足通信、數(shù)據(jù)中心、激光雷達(dá)、微波光子、醫(yī)療檢測等領(lǐng)域需求，有望填補(bǔ)我國在光子芯片晶圓代工領(lǐng)域的空白。