|
|
摘要 kPnu U!
7P 52r
干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如，表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例，在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡，構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 1fh6A`c
<9Ytv|t@0
 $bk_%R}s uVw|jj 建模任務(wù) ><)fK5x u3PM 7z!~  ]mi)x6 3^
7{[i) 元件傾斜引起的干涉條紋 <yKyM#4X ZZ].h2= K
 %bhFl,tL W6yz/{Rf 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 v; "
pc)i
cdfnM%
|
