中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻機(jī)與阿斯麥談判

業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥（ASML）就EUV光刻設(shè)備進(jìn)行談判。報(bào)道稱，中芯國(guó)際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設(shè)備，盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存顧慮。 nPj+mg  
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但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱，在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下，中芯國(guó)際將針對(duì)EUV光刻設(shè)備尋求與阿斯麥進(jìn)行談判。 G1d!a6>  
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本周二晚，中芯國(guó)際發(fā)布公告稱，蔣尚義獲委任為董事會(huì)副董事長(zhǎng)、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會(huì)成員，自2020年12月15日起生效。 u/% 4WgA  
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EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長(zhǎng)非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個(gè)微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個(gè)芯片。與老式光刻機(jī)相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。 W1UG\d`2  
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報(bào)道稱，中芯國(guó)際計(jì)劃利用EUV光刻機(jī)器，來(lái)生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。 ms%Ot:uA  
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