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UID：317649
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- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-01-10
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摘要 HCkfw+gaV x)N QRd 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。 Ah bh,U
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A)j!Wgs^z 建模任務 L^Q;M,.c;
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 5`:d$rv X<$D NRN 入射平面波 Bxw(pACf 波長 2.08 nm yZm=#.f 光斑直徑： 3mm <s\ZqL$ f 沿x方向線偏振 z%T|L[(6 $`%Om WW{ 如何進行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？ 3O Ks ?i3A 如何計算包含矢量效應的焦點的強度分布？ 1 tI=Dw x yH43Yo#Rk 概覽 l\Ww^ •樣品系統(tǒng)預設為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 '3sySsD&O •接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進行模擬。 . m\ 0<8C
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