如何分析部分
干涉成像系統(tǒng) (光刻機系統(tǒng))
`L(AvSR gY],
(*v 在光刻應用中,所使用的
光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
f:k3j}& 在這里給大家分享一個案例, 希望可以幫到大家。
7@MGs2 <qzHMyAi !8"516!d|p 這里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作:
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ # E'g{.N A#W%ud4 這里是案例的ZEMAX
文件: 備注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本過低,可能無法正常打開, 請諒解!
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