如何分析部分
干涉成像系統(tǒng) （光刻機系統(tǒng)）
I9P< !#q> j|gv0SI_
w 在光刻應(yīng)用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
Dv?'(.z 在這里給大家分享一個案例， 希望可以幫到大家。
uP/PVoKQ z)"7qqA N+)4]ir> 這里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ '0x`Oh&PK T0n=nC}< 這里是案例的ZEMAX
文件： 備注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本過低，可能無法正常打開， 請諒解！
9{@
