如何分析部分
干涉成像系統(tǒng) （光刻機系統(tǒng)）
ZYo?b"6A (,OF<<OH 在光刻應用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
z6 x`O-\ 在這里給大家分享一個案例， 希望可以幫到大家。
ViYfK7Z T3,}CK#O "^NsbA+ 這里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ , Aw
Z% KuJNKuHa. 這里是案例的ZEMAX
文件： 備注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本過低，可能無法正常打開， 請諒解！
G; Py%8 J1g+H2 如果不能打開文件， 請告知我， 我轉發(fā)給你。
P B?92py& B<\HK:%{ 回帖是對我分享的一個鼓勵， 謝謝回帖！
