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1. 摘要 UmMu|` ySDo(EI4 高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。 ,z`D}<3
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