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    [轉(zhuǎn)載][Vrituallab]馬赫澤德干涉儀 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-03-20
    摘要 X)Zc*9XA  
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    干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例，在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下，于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 w#}[=jy  
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    建模任務(wù) x4bmV@b  
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    由于組件傾斜引起的干涉條紋  Z2a~1BL  
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    由于偏移傾斜引起的干涉條紋 z94#:jPmG  
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