ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)：分辨率提升70% 逼近1nm極限

在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告，去年他們出貨了26臺EUV光刻機(jī)，預(yù)計2020年交付35臺EUV光刻機(jī)，2021年則會達(dá)到45臺到50臺的交付量，是2019年的兩倍左右。 QKN+>X  
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目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C，兩者基本結(jié)構(gòu)相同，但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計，維護(hù)更加便捷，平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時，支持7nm、5nm。 a