上海光機(jī)所在干涉儀波前校準(zhǔn)方法研究方面取得進(jìn)展

近日，中科院上海光機(jī)所高端光電裝備部研究團(tuán)隊(duì)在干涉儀測試的波前校準(zhǔn)方法研究方面取得進(jìn)展。相關(guān)研究成果以“High precision wavefront correction method ininterferometer testing”為題發(fā)表于Optics Express。

高精度光學(xué)元件已經(jīng)充分應(yīng)用于激光技術(shù)、光學(xué)通信、醫(yī)學(xué)影像、天文學(xué)和空間探測、半導(dǎo)體制造和科學(xué)研究等領(lǐng)域。使用干涉儀是目前高精度光學(xué)檢測的主要方法。為了得到測試元件真實(shí)的面形誤差，須采用波前校準(zhǔn)方法對干涉儀測試波前誤差進(jìn)行校準(zhǔn)。然而，目前沒有針對光學(xué)加工過程中的波前校準(zhǔn)的完整方法。

圖1.環(huán)帶誤差產(chǎn)生

圖2.環(huán)帶誤差修復(fù)結(jié)果

本項(xiàng)工作中，研究團(tuán)隊(duì)針對斐索干涉儀測試中波前誤差與實(shí)際表面誤差之間的差異，提出了一種新的高精度光學(xué)表面波前校正方法。主要內(nèi)容包括光學(xué)表面函數(shù)參數(shù)擬合、橫向失真校正、錯位誤差消除和凹陷表面誤差計(jì)算。并從函數(shù)參數(shù)擬合、射線追蹤、插值等方面對該方法的誤差進(jìn)行了深入分析。零位測試配置中離軸拋物面鏡的波前校準(zhǔn)證明了該方法的有效性。結(jié)果顯示，實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生的環(huán)形誤差顯著減小，離軸方向誤差從0.23λ提高到0.05λ（λ=632.8nm），非球面偏離的PV超過8.5mm。該研究在高精度光學(xué)元件檢測過程中有重要意義。

相關(guān)鏈接：https://doi.org/10.1364/OE.526063