光學(xué)微納制造技術(shù)及應(yīng)用

微納結(jié)構(gòu)可以在許多方面增強(qiáng)表面的功能。對于光學(xué)領(lǐng)域而言，當(dāng)結(jié)構(gòu)尺寸與所操控波長在量級上接近時，光的衍射成為主導(dǎo)。這種微納結(jié)構(gòu)表面能夠?qū)�光束進(jìn)行分束、勻束、準(zhǔn)直、聚焦等各種操控，因而被用于許多光學(xué)應(yīng)用，如全息顯示、光場調(diào)控、激光雷達(dá)、增強(qiáng)現(xiàn)實（AR）、混合現(xiàn)實（MR）、光學(xué)成像和光學(xué)檢測等領(lǐng)域。近年來，光學(xué)微納結(jié)構(gòu)功能表面元件的需求越來越廣泛，由于對尺寸精度、均一性和表面質(zhì)量要求嚴(yán)格，此類微納結(jié)構(gòu)元件的制造具有許多獨特的挑戰(zhàn)。本課程將講述光學(xué)微納結(jié)構(gòu)的圖形生成、圖形轉(zhuǎn)移和圖形復(fù)制等核心技術(shù)及應(yīng)用。

借此，為幫助我國國防軍工系統(tǒng)單位跟蹤和了解光學(xué)微納制造最新前言技術(shù)動態(tài)，我們將于近期舉辦“光學(xué)微納制造技術(shù)及應(yīng)用研討會”，具體通知如下：

一、嘉賓介紹：

會議主講人：張老師 研究員、博士生導(dǎo)師。主要從事微納結(jié)構(gòu)表面的制備技術(shù)研究。主要科研貢獻(xiàn)包括：建立了掃描離子束刻蝕方法，解決了傳統(tǒng)離子刻蝕面臨的口徑受限問題；提出利用高斯型能量分布離子束源和駐留時間算法，提高刻蝕深度準(zhǔn)確性和均一性的組合刻蝕技術(shù)；實現(xiàn)了大口徑高衍射效率菲涅爾波帶片的高精度刻蝕加工。全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化委員會微光刻分技術(shù)委員會委員；中國光學(xué)工程學(xué)會先進(jìn)光學(xué)制造青年專家委員會委員。主持和參與多項國家重大工程高分專項。發(fā)表學(xué)術(shù)論文50余篇，申請發(fā)明專利20余項。

二、主辦單位：北京佳遠(yuǎn)會議服務(wù)有限公司  

三、會議對象：從事全息顯示、光場調(diào)控、增強(qiáng)、混合現(xiàn)實、光學(xué)成像等相關(guān)人員

四、會議時間：2024年6月28-30日 （28日全天報到） 

會議地點：北京 

五、有關(guān)費用與報名方式：

會議費及培訓(xùn)費4800元/人，（含培訓(xùn)費及會議費、教材費、電子版資料、兩日午餐）。請參會單位確定人員后及時將參會信息用微信發(fā)送到我處，我們將在會議前7日內(nèi)發(fā)送《會議報到通知》。屆時由(北京佳遠(yuǎn)會議服務(wù)有限公司)開具票據(jù)。

六、日程安排：

七、聯(lián)系方式：

會議：李老師

手機(jī)/微信：13716781586（用于發(fā)送參會回執(zhí)或咨詢會議事宜）